三氟化氮（NF3氣體）99.999%高純氟化氮氣體 活動特惠！
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中文名稱:三氟化氮
英文名稱:Nitrogen trifluoride
中文別名:氟化氮;
英文別名:232-007-1; trifluoroamine
CAS號:7783-54-2
分子式:F3N
分子量:71.0019
物理性質：
1.性狀：無色、帶霉味的氣體。
2.熔點（oC）：-208.5
3.沸點（oC）：-129
4.相對密度（水=1）：1.89（沸點，液體）
5.相對蒸氣密度（空氣=1）：2.45
6.臨界溫度（oC）：-39.3
7.臨界壓力（MPa）：4.53
8.溶解性：不溶于水。
Vapor Phase Impurities
氣相雜質
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Contaminants 雜質 |
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Specifications (ppmv) 規格 |
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Ar+O2 |
Argon+Oxygen 氬氣+氧氣 |
<1.0 |
|
N2 |
Nitrogen 氮氣 |
<1.0 |
|
CF4 |
Halocarbon-14 四氟化碳 |
<10 |
|
CO2 |
Carbon Dioxide 二氧化碳 |
<1.0 |
|
N2O |
Nitrous Oxide 氧化亞氮 |
<1.0 |
|
SF6 |
Sulfur Hexafluoride 六氟化硫 |
<1.0 |
|
CO |
Carbon Monoxide 一氧化碳 |
<1.0 |
|
HF |
Hydrogen Fluride |
<1.0 |
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H2O |
Moisture 水 |
<1.0 |
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氟化氮主要用途是用作氟化氫－氟化氣高能化學激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學激光器中最有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業中一種優良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術的發展和電子工業大規模的發展技術，它的需求量將日益增加。
Standard Package Information
包裝規格
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Cylinder Type氣瓶規格 |
47ℓ, Bundle, Y-cylinder, 20ft ISO-Container, 40ft ISO-Container |
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Fill Weight充裝量 (kg) |
20, 320, 200, 4200, 8000 |
嚴加密閉，提供充分的局部排風和全面通風。操作人員必須經過專門培訓，嚴格遵守操作規程。建議操作人員佩戴自吸過濾式防毒面具（半面罩），戴化學安全防護眼鏡，穿防毒物滲透工作服，戴橡膠手套。遠離火種、熱源，工作場所嚴禁吸煙。遠離易燃、可燃物。防止氣體泄漏到工作場所空氣中。避免與還原劑接觸。搬運時戴好鋼瓶安全帽和防震橡皮圈，防止鋼瓶碰撞、損壞。配備相應品種和數量的消防器材及泄漏應急處理設備。
儲存注意事項： 儲存于陰涼、通風的庫房。遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應與易（可）燃物、還原劑、食用化學品分開存放，切忌混儲。儲區應備有泄漏應急處理設備。
